来源：环球时报

路透社近日“爆料”了一个所谓的中国“曼哈顿计划”，称中国科学家建造出了华盛顿多年来一直试图阻止的东西：一台极紫外（EUV）光刻机原型机。且不论通篇“知情人士透露”的报道是不是“烟雾弹”，其字里行间对中国科技进步的焦虑显而易见。这种焦虑恰恰让世人看到，一种在西方时常出现的不健康心态。

光刻机是重大技术装备，被一些国家认为是西方技术领先的“最后堡垒”，目前全世界只有荷兰企业阿斯麦可以生产EUV光刻机。中国在光刻机领域长期受制于人，高端设备以往主要依赖进口，因此一直在国产化道路上不断探索。事实上，外媒不必进行各种猜测，中国深紫外（DUV）光刻机有官方公布的进展。2024年9月，工信部在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中公布了国产DUV光刻机的技术参数：分辨率65纳米、套刻精度8纳米。国产光刻机未来的技术路线很清晰，就是朝着自主可控的方向持续努力。

芯片产业国际合作极为重要，尤其是对光刻机这样高度集成的复杂系统而言。先进芯片1平方毫米面积里晶体管数量超过1亿，设计、制造、封装、测试流程非常复杂专业，多国企业配合才能制造出如此精密的产品。即使中国在光刻机领域取得突破，也不会改变芯片产业的特性。中国对此有清晰的认知，一贯强调国际开放合作，欢迎各国企业携手组链。一些西方芯片企业在中国市场积极开展业务，获得了实实在在的好处就是证明。

中国坚持科技自主创新的目的是自立自强，对尖端技术的创新突破无论进行到哪一步都不影响对外合作，这一点在航天科技、绿色能源等许多领域都得到反复验证。比尔·盖茨坦言，美国的科技围堵反而让“中国在芯片制造等领域实现了全速发展”。英伟达首席执行官黄仁勋也多次表示，出口管制未能放缓中国AI的发展速度，反而使英伟达在中国AI芯片市场的份额大幅下降。中国将“卡脖子”清单化为科研攻关的清单。法媒评论称，“整个中国都在以一种‘你封我，我就自己造’的精神前行着”。事实证明，中国当前的科技底座、人才底座、产业底座，已经足以应对任何封锁。

科技是全人类共同的财富，应当服务于全球人民的福祉。封锁策略封住的是与中国的合作，最终损害的将是全球科技产业的整体福祉，其中自然包括西方自身的利益。世界经济论坛网站曾评论，中美合作是全球科技进步的基石，超过30%的美国高影响力科研项目都有中国科学家的参与。当美国以“国家安全”为名，无端打压华为等企业的芯片产品时，它破坏的正是这种推动人类进步的合作基石，预示着一条技术分裂、市场割裂、创新减速的歧途。美国内部的诸多争议和摇摆，例如在英伟达H200芯片对华出口政策上的分歧，恰恰证明了这种损人不利己的封锁策略难以持续。

我们的目标从来不是在封闭环境中构建一个自给自足的“技术孤岛”，而是在实现关键技术自主可控的基础上，更深度、更平等地融入并贡献于全球创新网络。我们相信，只有拆掉心中那堵名为“恐惧”与“霸权”的墙，拥抱开放合作的时代潮流，才能真正分享科技进步的红利，共同应对人类面临的挑战。那些企图用“铁幕”阻隔阳光的人，最终只会让自己留在阴影之中。合作共赢的大门始终敞开，但钥匙必须掌握在践行尊重、平等与互利互信的人们手中。